高真空磁控溅射镀膜机
设备基本配置说明
专业团队研发制造,由真空系统、卷绕系统、磁控靶溅射系统、控制系统等部分组成,可实现6U薄膜上溅射镀铜、铝、铅、锡、银、铬、钛等,可以在薄膜、布匹、海绵、铜箔、铝箔、纸张等多种卷材表面精确镀膜。
真 空 室:圆形或方形
镀 材:铜靶、铝靶、合金靶、陶瓷靶材等。
用 途:电子屏蔽膜、电子导电膜、光学膜等。
蒸 发 源:平面靶、圆柱靶,配备等离子清洗源
控 制 系 统:西门子、三菱等多种集成控制系统,人机界面,PLC自动控制,高精度交流伺服电机传动,恒张力卷绕,控制更稳定。
真 空 系 统:采用名牌分子泵、罗茨泵、滑阀泵等多种抽气系统,抽气速度更快,更节能环保;配置超低温冷阱,适用于任何气候环境;配置膜厚在线检测系统,可即时检测和显示膜层厚度。